Search for collections on PNUP Repository

Pelapisan Krom Pada Besi Secara Elektroplating

Pasolang, Yulisthia (2008) Pelapisan Krom Pada Besi Secara Elektroplating. Diploma thesis, Politeknik Negeri Ujung Pandang.

[thumbnail of Tugas Akhir] Text (Tugas Akhir)
PELAPISAN KROM PADA BESI SECARA ELEKTROPLATING.pdf - Published Version
Restricted to Registered users only

Download (1MB)

Abstract

(Yulisthia Pasolang), Pelapisan Krom Pada Besi Secara Elektroplating dan Kota Makassar (Wahyu Budi Utomo, M.Sc dan Drs. Herman Bangngalino, MT).

Elektroplating adalah suatu proses pelapisan suatu logam oleh logam lain menggunakan arus listrik. Besi merupakan logam yang penampakannya buram dan mudah terkorosi. Pada proses lapis listrik, krom digunakan untuk memperoleh lapisan pada permukaan logam besi dengan maksud sebagai lapisan pelindung terhadap korosi, permukaannya lebih keras serta meningkatkan daya kilap. Pelapisan dengan krom dapat dilakukan pada berbagai jenis logam seperti besi dan baja.
Penelitian ini bertujuan untuk menentukan kuat arus, rapat arus, dan tebal lapisan. Pada proses pelapisan krom pada logam dilakukan untuk menguji daya tahan terhadap korosi.
Pelapisan krom menggunakan bahan elektrolit asam kromat dan asam dengan perbandingan 100 : 1, selain komposisi elektrolit faktor lain yang sangat berpengaruh pada proses pelapisan adalah temperatur cairan dan rapat arus listrik. Pada penelitian ini suhu proses pelapisan dibuat tetap (550C), yang divariasikan adalah kuat arus listrik dan waktu pelapisan. Kuat arus yang dipakai mulai 4, 5, 6, 7 dan 8 A sedangkan waktu pelapisan adalah 15, 30, 45 dan 60 menit. Elektroda yang digunakan pada pelapisan krom ini adalah timbal (Pb) sebagai anoda dan besi yang akan dilapisi sebagai katoda. Sumber arus listrik yang digunakan adalah arus searah (DC).
Hasil pelapisan menunjukkan bahwa makin besar rapat arus yang digunakan, maka makin tebal pula lapisan yang diperoleh. Rapat arus yang paling tinggi digunakan adalah 32,44 A/dm2 dan menghasilkan lapisan dengan tebal 0.00143 dm. Tebal lapisan yang terbentuk berbanding lurus dengan waktu pelapisan.

Item Type: Thesis (Diploma)
Subjects: T Technology > TP Chemical technology
Divisions: Jurusan Kimia > D3 Teknik Kimia
Depositing User: Rahmawati S.Sos
Date Deposited: 11 Dec 2023 06:53
Last Modified: 11 Dec 2023 06:53
URI: https://repository.poliupg.ac.id/id/eprint/7610

Actions (login required)

View Item
View Item